【路透社独家：中国正举国之力打造“芯片曼哈顿计划”，国产EUV样机据称已投入测试】

12月17日据路透社独家深度报道，在深圳一处戒备森严的实验室里，中国科学家已经制造出了华盛顿多年来试图阻止的东西——一台能够生产尖端半导体芯片的极紫外光刻机（EUV）原型机。路透社援引两名知情人士的消息称，这台庞大的原型机于2025年初完成组装，目前正在进行紧张的测试。
据报道，这台原型机由一支由前ASML工程师组成的团队通过逆向工程制造而成。ASML是荷兰半导体巨头，也是目前全球唯一掌握EUV技术的公司。EUV光刻机利用极紫外光在硅晶圆上蚀刻比头发丝细数千倍的电路，是制造人工智能芯片、高端智能手机芯片以及先进军事装备芯片的核心设备。
知情人士透露，中国的这台机器已经可以成功产生极紫外光，但目前尚未能生产出可工作的芯片。尽管如此，这台原型机的存在表明，中国在半导体自主化的道路上可能比西方分析师预期的要快得多。ASML首席执行官Christophe Fouquet曾在4月表示，中国需要“很多很多年”才能开发出此类技术。
该项目被描述为中国的“曼哈顿计划”，由中国最高领导人亲自部署，是一项长达六年的国家级战略行动。据称，该项目由华为（Huawei）在其中扮演关键协调角色，调动了数千名工程师和全国各地的科研院所。为了保密，项目组采取了极端的安保措施：招募的前ASML资深华人工程师被要求使用假名工作，甚至获得了假身份证；实验室内部严禁对外通讯，部分华为员工甚至在工作日被禁止回家，吃住在园区内。

报道还披露了中国如何突破技术封锁的细节：
1. 人才招募： 中国自2019年起启动激进的人才引进计划，为海外专家提供300万至500万元人民币（约42万-70万美元）的签字费和购房补贴。甚至有知情人士称，一些入籍他国的华人专家被允许保留双重国籍。

2. 零部件获取： 由于无法获得最新的光学系统（如德国蔡司镜头），中国一方面利用长春光机所（CIOMP）等顶级机构攻关，另一方面通过二级市场和拍卖会搜集旧款ASML机器的零件，甚至利用中介公司掩护购买受限的尼康和佳能组件。
3. 逆向工程： 一个由约100名应届毕业生组成的团队专门负责拆解和重新组装光刻机组件，每个人的工位上方都有摄像头记录全过程，成功复原组件者可获重奖。
尽管中国政府设定的目标是在2028年利用该原型机生产出可工作的芯片，但接近项目的人士认为2030年是一个更现实的目标。但这依然比西方分析师预测的时间表提前了数年。一位知情人士直言：“中国的目标是最终能够完全用国产机器制造先进芯片，想把美国100%踢出其供应链。”

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