佳能最早26年发售氟化氪光刻机新机型

日本佳能最早将于2026年初发售用于制造成熟制程半导体的氟化氪（KrF）光刻机的新机型。该设备用于在半导体晶圆上绘制微细电路的工序。这是佳能约14年来首次更新升级光刻机。新机型的半导体晶圆处理能力为每小时400片以上，较2012年发售的老款机型 (含选配件) 提升了三成。此举意在抓住运算用逻辑半导体及存储器厂商的旺盛需求。佳能在KrF光刻机领域占据 30%的全球份额(按台数计算)。与荷兰阿斯麦控股等企业是竞争关系。佳能还将于2026年初推出所支持的电路比KrF光刻机更加微细的ArF干式光刻机。

—— 日经新闻


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